GM2000/04高剪切膠體磨一種粒徑均一的納米尖晶石鐵氧體的制備方法，屬于金屬氧化物制備技術(shù)領(lǐng)域。先在膠體磨中將金屬離子還原成高度分散的納米金屬粒子，然后將含有納米金屬粒子的混合溶液轉(zhuǎn)入到聚四氟乙烯內(nèi)膽的高壓反應(yīng)釜中水熱晶化，粒徑為5至200納米的尖晶石鐵氧體粒子。其優(yōu)點(diǎn)在于：膠體磨的高速剪切作用使還原得到的金屬粒子高度分散，從而在水熱晶化過程中可以得到粒徑均一的納米尖晶石鐵氧體；反應(yīng)在溶液中進(jìn)行，通過調(diào)節(jié)反應(yīng)物濃度、反應(yīng)溫度、反應(yīng)時(shí)間等參數(shù)可以實(shí)現(xiàn)納米粒子的粒徑大小的控制；由于反應(yīng)中不需要高溫焙燒過程，操作簡(jiǎn)單、制備成本和能耗低，有利于工業(yè)化應(yīng)用。

GM2000/04高剪切膠體磨主要用途：

高剪切膠體磨適用于制藥、食品、化工及其它行業(yè)的濕物料超微粉碎，能琪到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)德粉碎、乳化、均質(zhì)和混合，主要技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國(guó)外同類產(chǎn)品的先進(jìn)水平。

運(yùn)行原理：

高剪切膠體磨在電動(dòng)機(jī)的高速轉(zhuǎn)動(dòng)下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入高剪切破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團(tuán)、粘塊、團(tuán)塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎區(qū)，在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對(duì)高速切割從而產(chǎn)生強(qiáng)烈摩擦及研磨破碎等。在機(jī)械運(yùn)動(dòng)和離心力的作用下，將已粉碎細(xì)化的物料重新壓入精磨區(qū)進(jìn)行研磨破碎，精磨區(qū)分三級(jí)，越向外延伸一級(jí)磨片精度越高，齒距越小，線速度越長(zhǎng)，物料越磨越細(xì)，同時(shí)流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級(jí)流體的方向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強(qiáng)烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過三個(gè)精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產(chǎn)生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達(dá)到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細(xì)化的目的。液料的zui小細(xì)度可達(dá)0.5um。

是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn).的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。GM2000膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。